一般將單獨(dú)使用硫酸為催化劑的鍍鉻液稱為第一代鍍鉻液，同時(shí)加入二種或兩種以上無機(jī)陰離子的鍍鉻液稱為第二代鍍鉻液，這些無機(jī)陰離子主要為氟化物、溴化物、碘化物等。其中加入氟化物可以提高電流效率、覆蓋及分散能力，但含氟化物的鍍液在低電流區(qū)對(duì)工件腐蝕比較嚴(yán)重，目前比較先進(jìn)的鍍硬鉻工藝都不含氟化物。  
鍍鉻溶液中的六價(jià)鉻以CrO4 2-,Co2O7 2-，Cr3O10 2-，Cr4O13 2-等陰離子形式存在在時(shí)，陰對(duì)它們有很強(qiáng)的排斥作用，使它們很難接近荷負(fù)電的陰表面而發(fā)生電還原反應(yīng)。因此，可能存在一個(gè)化學(xué)轉(zhuǎn)化步驟。  
硫元素比鉻元素的電負(fù)性大，硫酸鉻酰是個(gè)性分子，鉻酰基帶正電荷，硫酸根帶負(fù)電荷，與CrO4 2-，Cr2O7 2-相比，陰對(duì)硫酸鉻酰分子的排斥作用減弱了。使得六價(jià)鉻容易接近陰表面，實(shí)現(xiàn)往電表面的傳輸。在陰表面上，鉻酰基的一端指向陰表面，硫酸根的一端指向溶液。H2SO4的作用就是改變六價(jià)鉻的存在狀態(tài)，使不易電還原的CrO4 2-，Cr2O7 2-轉(zhuǎn)變?yōu)橐子陔娺€原的硫酸鉻酰。如果鍍鉻液中不存在H2SO4，就不會(huì)有硫酸鉻酰的生成，難以電沉積出鉻來，此時(shí)，溶液中的陰離子只有 H+,陰只能將H+還原為H2氣體析出。  

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