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電流密度對(duì)鍍件鍍層沉積有什么影響

來源:www.591hxt.com 發(fā)表時(shí)間:2017-10-12

一般來說,在工藝規(guī)定的范圍內(nèi),陰電流密度的提高,可以導(dǎo)致陰化的增大,從而得到的鍍層結(jié)晶細(xì)致,特別是陰化率大的情況下,效果更為顯著。
但是,電流密度是不能無限的增大的,當(dāng)超過某一限度時(shí),反而會(huì)造成鍍件的棱角、邊緣處形成樹枝狀結(jié)晶,嚴(yán)重的時(shí)候,甚至觸紅線海綿狀沉積,也就是常言的燒焦。
所以,事宜的電流密度范圍的確定,要看鍍液的性質(zhì)、主鹽濃度、鍍液溫度及攪拌等條件而定。
一般說來,隨著主鹽濃度的增加,允許電流密度的上限提高,而且總的電流密度范圍也寬一些。
當(dāng)鍍液的溫度較高或者有攪拌時(shí),可以使用較高的電流密度。
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